研究用ダイヤモンドCVD+グラフェン合成装置 HFCVD Graphene Plus システム

革新的なアイディアを盛り込んだHot Filament CVD

本製品はCVDダイヤモンド、グラフェン、CNTが合成出来るCVD装置です。水冷SUSチャンバー、ロードロック、回転加熱ステージ、高真空排気ポンプを備え、炭素系薄膜材料の研究に最適の装置です。チャンバーは観察窓も多く設けており、目的に合わせて自由にご使用いただけます。コンパクト設計の装置は研究室に設置しても面積・大きな付帯設備を必要としません。

12インチ対応HFCVDシステムはBlue Wave Semiconductors社ならではのシステムデザインが特長のダイヤモンド成膜装置です。大口径ながら膜質を均一にするユニークなアイディアが随所に盛り込まれています。

カタログ・資料

特長・機能

  • 高真空SUS水冷チャンバー
  • カセット式フィラメントホルダー採用
  • 加熱・回転試料ステージ

仕様

  • 合成面積2インチ以上(最大12インチ)
  • 基板加熱700℃
  • 3系統MFC(H2、CH4、Ar)
  • カセット式フィラメントホルダー

オプション

  • 2色式放射温度計
  • 追加MFC
  • ロードロック式試料搬送機構
  • リモート制御(Lab View)

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ダイヤ成膜装置部

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