ダイヤモンド成膜装置

本マイクロ波プラズマCVD装置は、高品質ダイヤモンド合成用に設計された低価格システムです。研究開発のための初期システムとして最適で、多結晶ダイヤモンド合成や単結晶ダイヤモンド合成が可能です。本装置は、小型で操作性に優れ、再現性の良い結果をもたらします。本装置は、ダイヤモンド合成に必要なマイクロ波発生器、導入導波管、石英反応炉、試料ステージ、空冷ユニット、3系ガス制御、真空制御および真空ポンプが一体となった構成です。石英ベルジャーを使用することで、ドーパント時に付着するボロンを容易に取り除くことが可能で、簡易メンテナンスを実現しました。

本製品は、高品質なダイヤモンド成膜成長に使用されるマイクロ波CVD装置で、R&D用途における基礎研究で使用するには最適なモデルです。他の合成方法と比較し、同等以上の均一性を保ちながら、広範囲に渡って高品質な多結晶/単結晶のダイヤモンドを様々な基板に成膜することができます。本製品は、1.5kWマイクロ波発振器、導波管コンポーネント、水冷式SUSリアクター、加熱試料ステージ/加熱電源/ステージ制御器、3系統のMFC、真空ポンプ、システム制御ユニット（タッチパネル）で構成されます。汎用オプションとして、放射温度計、高真空排気ポンプ（TMP）、基板バイアス等を用意しています。

本製品は、高出力マイクロ波を用いたCVDダイヤモンド合成用マイクロ波プラズマCVD装置です。旧セキテクノトロンより継承されたプラズマ制御技術により高安定・高密度プラズマによりCVDダイヤモンド（多結晶、単結晶）を高速合成します。OMC構造のリアクターは、試料装填、内部の清掃を容易にし、最適な生産用装置となっています。GUIによる制御ソフトは自動運転、プロセス管理、運転記録、インターロック等の各種機能を備え、長時間の無人運転を可能とします。用途に合わせてマイクロ波出力6kWまたは8kWのモデルをご用意します。

本装置は、AX6500を改良し、より高品質で大面積のダイヤモンド合成を可能にしたマイクロ波CVD装置です。気密性を上げるため、チャンバーシールを2重構造とした差動排気システムを採用しています。また、プラズマ形状を変化させるオプションキットを取り付けることで下向き合成が可能になり、チャンバー内部に浮遊する不純物が基板に堆積することなく、より高品質のダイヤモンド合成が可能です。当社では、本装置を使用して4インチウェハの合成に取り組んでいます。

本装置は、リニアアンテナ構造を用いた独自のプラズマ発生技術を用いることで、6インチサイズのダイヤモンド合成を可能にしました。合成中の温度を450℃以下に抑えることで、プラスチックや金属類など、低融点材料への大面積ダイヤモンド合成が可能です。また、パルス方式でのマイクロ波発振をおこなうことで、低入力パワーで高いピークパワーを出力し、基板温度やプラズマ密度を独立調整することが可能です。絶縁性ダイヤだけでなく、ドーパントガスを用いることで、導電性ダイヤの合成も可能で、バイオメディカル、電気化学、エネルギー、保護膜やヒートスプレッダ等、ダイヤモンドの応用分野を飛躍的に広げる一台です。

本製品は、0.5umから50um程度までの多結晶CVDダイヤモンドを2次元・3次元基板に合成し、装置はGUIにより全ての機能を制御されます。sp3社の優れたプロセス条件と、独自フィラメント・テンション機構により、安定した合成結果と優れた量産性をご提供します。

本製品は、1台でCVDダイヤモンド、グラフェン、CNTが合成出来るCVD装置です。水冷SUSチャンバー、ロードロック、回転加熱ステージ、高真空排気ポンプを備え、炭素系薄膜材料の研究に最適の装置です。チャンバーは観察窓も多く設けており、目的に合わせて自由にご使用いただけます。コンパクト設計の装置は研究室に設置しても面積・大きな付帯設備を必要としません。

本製品は、気相合成法を用いて製造された高純度のダイヤモンド単結晶基板です。効率的な成長により低コストで、種結晶からの分離技術で大量生産が可能になり、また、(100)成長を繰り返して、大型結晶化に成功しました。研究用途向けにRNシリーズ、工具用にTNシリーズの2種類あり、用途に応じてカスタム品に対応します。

ダイヤモンドは物質の中で最高の熱伝導率特性を持った物質で、電気絶縁性においても高い絶縁抵抗値を持っています。Dia Thermシリーズは、主に放熱材として使用可能な多結晶ダイヤモンド基板で、DOSシリーズは、シリコンウエハ上にCVD法で製造された多結晶ダイヤモンド基板です。形状・金属蒸着等はご希望に応じて対応します。